日本yonekura小型加熱/冷卻高溫觀測(cè)裝置 MHO300 特點(diǎn)介紹

可安裝在顯微鏡載物臺(tái)上

溫度范圍-100℃至100℃無(wú)縫控制

可在冷卻過(guò)程中控制溫度

環(huán)境檢測(cè)中的應(yīng)用

可現(xiàn)場(chǎng)觀察自由環(huán)境溫度的變化。

根據(jù)樣品形狀制作爐體

我們可以根據(jù)您的樣品尺寸制造產(chǎn)品，僅加熱、僅冷卻等。

測(cè)量測(cè)試過(guò)程中的電氣變化

通過(guò)引入鉑絲等電極，可以檢測(cè)電阻值等的變化。

與傳統(tǒng)加熱爐相比，從6個(gè)方向快速加熱，極大地?cái)U(kuò)大了溫度分布區(qū)域。（5個(gè)觀察方向）

100mm大樣品架標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備（加熱范圍約70 x 70 x 5tmm）

除了頂部觀察外，還可以從側(cè)面觀察。

日本yonekura小型加熱/冷卻高溫觀測(cè)裝置 MHO300 規(guī)格參數(shù)

所有系列均可進(jìn)行加熱觀察。

密封爐結(jié)構(gòu)允許在任何氣氛下加熱（可以在大氣、氣流或真空中加熱）

可高速加熱和冷卻 1000℃以下時(shí)可實(shí)現(xiàn) 50℃/秒的加熱速度（取決于條件）

由于燈加熱，可以實(shí)現(xiàn)清潔加熱

只需在電腦上按一下按鈕即可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)操作，包括自動(dòng)氣體更換（可選）

實(shí)現(xiàn)高倍率原位觀察

使用高倍顯微鏡可以觀察到加熱條件的細(xì)微變化。

安裝在X射線分析/衍射設(shè)備和拉曼光譜設(shè)備中

緊湊的水冷爐體對(duì)周圍區(qū)域沒(méi)有熱影響，因此可以在加熱至1500℃的同時(shí)進(jìn)行分析和衍射。